松下電器産業(株)半導体研究センター
1987 年 56 巻 9 号 p. 1168-1172
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現在,エキシマレーザーを用いた露光方法が,次世代リソグラフィー技術の一つとして注目されている.エキシマレーザーの特徴は,短波長と高エネルギーにあり,これを用いることにより,0.5μm燃以下のレジストパターンを形成することが可能となる.本稿では,レジスト材料およびレジストパターン形成プロセスを中心に,エキシマレーザー・リソグラフィーの現状および将来展望について述べる.
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