応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
エキシマレーザーによるサブミクロン・リソグラフィー
遠藤 政孝笹子 勝中川 秀夫平井 義彦小川 一文石原 健
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1987 年 56 巻 9 号 p. 1168-1172

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抄録

現在,エキシマレーザーを用いた露光方法が,次世代リソグラフィー技術の一つとして注目されている.エキシマレーザーの特徴は,短波長と高エネルギーにあり,これを用いることにより,0.5μm燃以下のレジストパターンを形成することが可能となる.本稿では,レジスト材料およびレジストパターン形成プロセスを中心に,エキシマレーザー・リソグラフィーの現状および将来展望について述べる.

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© 社団法人 応用物理学会
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