広島大学工学部第二類(電気系)
1988 年 57 巻 12 号 p. 1895-1900
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エキシマレーザー,低圧紫外線ランプ,シンクロト目ン放射光などによる光化学反応を利用した材料の超微細加工は,次世代技術として期待されているが,まだ決定的な新プロセスを開発するには至っていない.基板を冷却して反応活性種の表面吸着層を制御する方法は,光プロセスの画期的進歩につながる可能性を秘めていることを示す.
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