NTT光エレクトロニクス研究所
1989 年 58 巻 11 号 p. 1641-1644
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プロセス用ECRプラズマに関する記事 (応冷物理 57 (1988) 1301) に対する白井氏の解釈,およびコメントに対して,いくつかのデータを補充しっつ回答する.
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