高速スパッタ型ECRプラズマ成膜技術の汎用化—導電性膜の高速形成技術—
1989 年 58 巻 8 号 p. 1217-1226
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1989 年 58 巻 8 号 p. 1217-1226
導電性膜の形成が可能なスパッタ型ECRマイクロ波プラズマ成膜技術と,その高速化技術についてまとめた.導電性膜形成技術は,ターゲットの死角に設置したマイクロ波導入窓と,真空導波管を用いた技術であり,導波管中でのプラズマ生成を抑制した.その手法として, (a) 磁界分布制御法と (b) マイクロ波垂直入射法を提案した.一方,低ガス圧中での高速化技術は, 1対のターゲットを組み合わせた (c) 電界ミラー型の高密度プラズマ生成技術である.これらの技術は,導電性膜も含めた,汎用的な膜形成への応用が期待される.
