高電圧パルス放電化学気相成長法による アモルファスシリコン系薄膜の作製
1992 年 61 巻 10 号 p. 1039-1043
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1992 年 61 巻 10 号 p. 1039-1043
高電圧パルス放電を用いたプラズマCVD法は従来のグロー放電を用いたCVD法に比べ,混合ガスを原料に用いる場合などに優れた特長を有する技術である.ここでは,その原理,成膜機構について述べ,本成膜法の特長を明らかにする.さらに,本方法により堆積した水素化アモルファスシリコン系膜の特性,および太陽電池への適用例についても紹介する.
