Si自然酸化膜制御
1992 年 61 巻 11 号 p. 1124-1131
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1992 年 61 巻 11 号 p. 1124-1131
Siウエハーを希釈HFやバッファフッ酸で洗浄すると,その表面は水素結合で覆われる.表面の原子スケールの凹凸は,処理薬液の組成やpH値に敏感である.Siの大気中や純水中での自然酸化も,表面の原子スケールでのモフォロジー,結晶面方位,自由電子濃度に依存する.これらの実験事実に基づいて,Siの自然酸化のメ力ニズムについて議論している.
