書き換え可能な大容量光メモリーとしての光磁気メモリーの高密度化が,短波長のレーザー光源の出現により実現化してきた.これに対応しうる媒体の研究レビューをした.現在,光磁気ディスクには希土類遷移金属アモルファス薄膜が用いられている.しかし,短波長になるに従い磁気光学効果は単調に減少し,再生信号の信号対雑音比が劣化する.これを解決するために,短波長側で磁気光学効果の大きい,(1)軽希土類添加の希土類遷移金属アモルファス薄膜,(2)貴金属/遷移金属の人工格子薄膜, (3) 酸化物薄膜,の3種類について,研究の現状,問題点を論じた.
