応用物理
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ダイヤモンド薄膜
ここまできた薄膜成長と応用素子
小林 猛牧 哲朗
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1993 年 62 巻 12 号 p. 1189-1196

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抄録

薄膜合成技術の進歩により,宝石の王者“ダイヤモンド”が今,300~510°Cの高温でも動作ができる半導体デバイスとして育ちつつある.シリコンと同じIV族の結晶でありながら,ダイヤモンドの諸特性はずいぶん異なっている.本稿では,興味深いダイヤモンド半導体の特性,研究の基本となる薄膜成長技術,電子・光デバイス応用などについて,わかりやすく解説する.

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© 社団法人 応用物理学会
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