応用物理
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表面・界面ラフネスの原子間力顕微鏡による評価
吉信 達夫
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1994 年 63 巻 11 号 p. 1123-1126

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抄録

原子間力顕微鏡 (Atomb Force Microscopy: AFM) は,試料表面の観察スケールをnmオーダーから 100μmオーダーまで幅広く変化させることができるので,フラクタル解析に適している.実際に,CVD成長膜表面やSio2/Si界面など,さまざまな材料表面について,ラフネスの空間的スケーリングを調べると,それが自己アファイン・フラクタルとして記述されることがわかった.成長表面の空間的・時間的スケーリング則と,その背後にあるカイネティック・ラフニングの理論について紹介する.

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© 社団法人 応用物理学会
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