応用物理
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シリコン量子細線の作製とその伝導特性
平井 義彦森本 廉
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1994 年 63 巻 11 号 p. 1143-1146

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抄録

結晶異方性エッチングと熱酸化を利用した,新しいシリコン量子細線の形成方法を開発した.この方法によって,シリコン単結晶の周囲を,シリコン酸化膜で完全に囲んだ構造で,かつ界面の平たん性に優れた量子細線の形成ができた.これまでに,最小線幅10nmの量子細線の形成を確認した.また,形成した線幅65nmの量子細線の伝導特性を評価したところ,一次元サブバンドに起因すると思われる,電流の振動を観測した.簡単な解析により,理論的な一致も得られた.

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© 社団法人 応用物理学会
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