ジクロロシランからのシリコン薄膜の形成
1995 年 64 巻 10 号 p. 1023-1027
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1995 年 64 巻 10 号 p. 1023-1027
原料ガスとしてSiCl2H2を用いたa-Si:H薄膜作製法とその特性について,最近の研究成果をまとめた.製膜法としては,ECRプラズマ,DCプラズマ, Hg光増感法,RFプラズマ法と,バラエティーに富んでいるが,この原料ガスから作製されたa-Si:H膜に蹟著な(?)光安定性の向上が認められている.シリコン網目にも,これまでのものと異なる構造が認められ,今後の高安定・高品質a-Si:H膜作製に一つの指針を与える.
