レーザーアブレーションによる光磁気記録用ビスマス置換希土類一鉄ガーネット薄膜の作製
1995 年 64 巻 3 号 p. 220-225
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1995 年 64 巻 3 号 p. 220-225
高温超伝導体薄膜の作製で世の注目を集めたパルスレーザーアブレーション(Pulsedlaserab-lation: PLA)法が,最近ますます注目され,強誘電体薄膜,そして強磁性体薄膜,金属薄膜などさまざまな薄膜の作製に応用され,高品質薄膜の作製に適した方法であることがわかってきた.本稿ではまず,PLA過程について,これまでの研究の経緯を述べ,筆者らの結果やこれまでの報告に基づき,基礎的なPLA過程について考察する.そして主題として,高密度光磁気記録媒体として注目を集めているビスマス置換希土類一鉄ガーネットフェリ磁性体薄膜の作製に関する筆者らの結果について述べる.PLA法は,薄膜作製法として非常に有望であるにもかかわらず,その基礎過程の理解はあまり十分ではない.基礎過程の解明が進めば,さらに有効な高品質薄膜作製法として確立されるものと期待される.
