1995 年 64 巻 6 号 p. 565-569
プラズマ中の微粒子の成長過程をインプロセスで計測する手段として新しく開発した,ミー散乱エリプソメトリーを紹介する.この方法では,微粒子からのミー散乱光の偏光状態を計測して,微粒子の粒径や密度のほか,光学定数や粒径分布の広がりの度合いも評価できる.プラズマ中に捕捉された微粒子についての測定結果を,ミー散乱理論に基づくシミュレーションと対応させ,凝集やコーティングによる成長形態を明らかにした.また,プラズマ中でクーロンカによって相互作用する微粒子の集団的形態が液体から固体へと相転移する現象の解析にも有用であることを示した.