パルス放電プラズマ化学気相成長 (CVD) によるダイヤモンド膜の作製
1996 年 65 巻 12 号 p. 1258-1261
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1996 年 65 巻 12 号 p. 1258-1261
ダイヤモンド膜をパルス放電DCプラズマ化学気相成長 (OVD) で作製する場合に観察される現象とその応用例について紹介する.放電を連続した直流放電から半波整流波形による間欠放電に変えることにより膜の結晶性が改善される.直流を断続させ変圧器で昇圧する方式のパルス電源で放電させた場合は,パルスの繰り返し周期を長くし,デューティ比を小さくするほど膜の結晶性がよくなる.放電開始時の電流を大きくしても結晶性を改善できる.応用例として,間欠放電による窒化珪素スローアウェイチップ上への高品質ダイヤモンド膜のコートと,電界放射特性の改善を目的とした,パルス放電によるタングステン細線上へのダイヤモンド膜のコートについても紹介する.
