極平坦ビスマス系超伝導薄膜の成長
1997 年 66 巻 4 号 p. 373-376
詳細
1997 年 66 巻 4 号 p. 373-376
平坦な酸化物超伝導薄膜の成長は,デバイスや回路作製の際の積層化にむけて必須である.われわれは,格子定数の異なる各種基板上にBi2Sr2CaCu2Oy (Bi2212) 薄膜を作製し,薄膜特性におよぼす基板材料の効果を系統的に調べた.その結果,格子不整合の小ざい基板を用いた場合に,高Tcかつ析出物の少ない極平坦表面を有するBi2212薄膜が得られることを明らかにした.
