応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
低温赤外吸収による高濃度ドープシリコン基板中の酸素濃度評価
エビタキシャルウエハーへの適用
小飯塚 正明稲葉 美智子金田 寛
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1997 年 66 巻 7 号 p. 739-740

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© 社団法人 応用物理学会
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