パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製
1998 年 67 巻 6 号 p. 648-654
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1998 年 67 巻 6 号 p. 648-654
大電力のパルスビーム(レーザービーム,粒子ビームなど)をターゲット材料に照射するとビームのエネルギーを吸収して飛散する(アブレーション).このとき生成されるプラズマは,通常の低密度プラズマとは異なり,非常に高密度で,新しい応用が可能となってきた.本講義では,筆者らが開発したパルスイオンビーム蒸着法やパルス細線放電法による高密度アブレーションプラズマを用いて,薄膜や超微粒子作製について,原理や開発の現状などについて紹介する.
