応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
アモルファスシリコンの成長過程
松田 彰久
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1999 年 68 巻 1 号 p. 57-61

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抄録

モノシランプラズマCVD法におけるアモルファスシリコン薄膜の成長過程について,プラズマ中での電子励起反応種生成過程,定常状態形成過程,膜成長表面反応過程に分類して解説した.亡らに,作製された摸中のダングソングボンド欠陥密度決定表面反応についても考察した.

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© 社団法人 応用物理学会
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