電子技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池スーパーラボ
1999 年 68 巻 1 号 p. 57-61
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モノシランプラズマCVD法におけるアモルファスシリコン薄膜の成長過程について,プラズマ中での電子励起反応種生成過程,定常状態形成過程,膜成長表面反応過程に分類して解説した.亡らに,作製された摸中のダングソングボンド欠陥密度決定表面反応についても考察した.
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