応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
半導体プロセスにおける表面反応の理解
影島 博之
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1999 年 68 巻 11 号 p. 1280-1284

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抄録

半導体プ農セスには非常にさまざまなところに表面反応が顔を出している.微細化・高精度化の著しい半導体プロセスの理解と設計の一助となるよう,原子レベルでの表面反応の理解を進める手順について,いくつかの最新の理論計算による検討例を交えて解説する.

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© 社団法人 応用物理学会
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