NTT物性科学基礎研究所
1999 年 68 巻 11 号 p. 1280-1284
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
半導体プ農セスには非常にさまざまなところに表面反応が顔を出している.微細化・高精度化の著しい半導体プロセスの理解と設計の一助となるよう,原子レベルでの表面反応の理解を進める手順について,いくつかの最新の理論計算による検討例を交えて解説する.
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら