応用物理
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フォトニック結晶の作製と光デバイスへの応用
川上 彰二郎大寺 康夫川嶋 貴之
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1999 年 68 巻 12 号 p. 1335-1345

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抄録

屈折率の異なる複数種類の透明材料が多次元的に周期配列した構造体である「フォトニック結晶」は,光に対する禁制帯であるフォトニック・バンドギャップ (PBG) と大きな異方性・分散性で特徴づけら れる,まったく新しい光材料である.これらの性質;を利用することで,超小型光集積回路や高効率発光素子など次世代の光エレクトロニクス素子が可能となる.著者らはこれまで, rfバイアス・スパッタ法 による堆積膜の形状の自己整形作用を利用した「自己クローニング」とよぶ技術を開発し,多次元フォトニック結晶の作製を行ってきた.本稿では,従来の結晶合成技術と著者らの作製法の特徴,そしてデ バイス応用例について概説する.

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© 社団法人 応用物理学会
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