応用物理
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リソグラフィー技術:露光装置の原理とレジストプロセス技術
岡崎 信次
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2000 年 69 巻 2 号 p. 196-200

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抄録

半導体素子の微細化,高集積化をけん引してきた,リソグラフィー技術の基礎を紹介する.リソグラフィー技術は,露光装置技術とマスク技術,それにレジスト材料とそのプロセス技術から成り立っている.また露光に用いる光源として,従来は紫外線や,深紫外線を用いてきたが,将来は電子線やX線,極端紫外線等利用が検討されており,それぞれの方式に対応した技術について解説する.

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© 社団法人 応用物理学会
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