応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
CVD成膜の物理
宮崎 誠一
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2000 年 69 巻 6 号 p. 689-694

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抄録

薄膜技術は,数多くの産業分野で技術革新を担う重要な技術として幅広く応用されている.薄膜の品質・信頼性のさらなる向上と新機能の探求が強く求められる今日では,薄膜の成長をリアルタイムあるいはその場観測し,原子・分子スケールで制御する技術の開発が盛んに行われている.薄膜の堆積は液相または気相から固相が析出・成長する現象である.液相成長には,融液からの結晶成長やメッキに代表される電気化学的な成長が代表例として上げられる.また,気相成長には化学反応を利用した化学気相堆積 (CVD) 法のほか,真空蒸着,スパッタリングやアブレーションなどの物理的現象を応用した堆積 (PVD) 法がある.本稿ではCVD法に焦点を絞って,その基礎原理を概説する.また,代表的なCVD技術である熱CVD, プラズマCVDおよび光CVDについて,具体的な事例を交えてその特徴を述べる.

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© 社団法人 応用物理学会
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