応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
プラズマドーピング技術
水野 文二
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2001 年 70 巻 12 号 p. 1458-1462

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抄録

プラズマのもつ二つの特徴を生かした応用を提案する.一つ目は低エネルギー.微細な半導体LSIの製造に最適のエネルギーを発生するプラズマにより,コストパフオーマンスの高いドーピング技術を実現する.二つ目は等方性.平面ではない,いろいろな三次元的形状をした物質の表面に異なる物性の材料を強固に付着させ,特性を改善する.

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© 社団法人 応用物理学会
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