応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
有機EL薄膜作成技術II—ドライプロセス—
八瀬 清志高田 徳幸谷垣 宣孝
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2001 年 70 巻 4 号 p. 455-459

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抄録

1987年のTangらの研究に始まる有機 EL (Ellectroluminescent) 素子の作製は,日本においては有機低分子系の真空蒸着法が,欧米においては高分子系のスピンコート法が主に用いられている.本講座では,日本で多用されているドライ系の真空蒸着法の概説,構造制御による偏光発光,光誘起発光強度の増加,およびレージングについて紹介する.

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© 社団法人 応用物理学会
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