応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
プロセスシミュレーションにおける物理モデル
植松 真司
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2002 年 71 巻 12 号 p. 1529-1533

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抄録

プロセスシミュレーションにおける不純物拡散とシリコン熱酸化に関する物理的な基本モデルについて概説する.まず,基本モデル,および,それに墓ついて拡散方程式をどのように立てるかについて解説する.次に,その拡散方程式を解くことにより得られるシミュレーション結粟とその物理釣意珠について説明する.さらに,最近の進展として,第一原理計算結架を取り入れたモデルの精密化についても紹介ずる.

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© 社団法人 応用物理学会
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