Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Resists Using the Absorption Band Shift Method for ArF Excimer Laser Lithography
Takeshi Okino, Koji Asakawa, Naomi Shida, Tohru Ushirogouchi
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キーワード: ArF, absorption band shift, naphthalene, dissolution inhibitor
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1998 年 11 巻 3 号 p. 489-492

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