ガラス磁気ディスク基板の新概念超平滑両面ポリシング特性における砥粒濃度の影響

抄録

筆者らは従来の方法では設定が困難であった高速度・高圧力条件で，両面ポリシング加工が可能な新概念超平滑両面ポリシング加工法を開発した．本報では，ガラス磁気ディスク基板を用いて砥粒濃度がポリシング特性に及ぼす影響を検討した．その結果，高濃度の条件では除去速度が増大することがわかった．