数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法における酸化膜厚制御の精度向上

抄録

半導体材料の加工においては、大面積を短時間で処理し、かつ加工量を高い精度で制御することが要求される。そこで我々は大面積の一括加工が可能な多電極型数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法を考案した。本手法では電力やガス流量などの様々なパラメータが酸化レートに与える影響を評価し、酸化膜厚の制御を行うことが重要となる。今回、電極部分の電圧を測定することにより、更なる加工の高精度化を検討した結果について報告する。