電子ビームリソグラフィによるロールモールド上への描画特性

微細ラインアンドスペースパターンとドットパターン作製

抄録

電子ビームリソグラフィーを用いてロールモールドへの微細パターンの作製を行った。Alロールモールドに電子ビーム用ポジ型レジストを塗布し、走査型電子顕微鏡により回転させながら直接電子ビームで露光することによって作製した。電子ビーム露光により微細加工、シームレスなパターンの作製が可能となる。本研究では幅100nm以下のラインアンドスペースパターンとドットパターンの作製に成功したので報告する。