SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石／ウエハ相対運動の改善

谷 海洋; 楊 旭; 楊 暁喆; 川合 健太郎; 有馬 健太; 山村 和也

doi:10.11522/pscjspe.2021A.0_88

2021年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2021A.0_88

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主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2021年度精密工学会秋季大会

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/09/21 - 2021/09/27

SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石／ウエハ相対運動の改善

*谷海洋, 楊旭, 楊暁喆, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

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キーワード: SiC, 電気化学機械研磨, 材料除去均一性

会議録・要旨集フリー

p. 88

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抄録

陽極酸化を用いたスラリーレス電気化学機械研磨は，高能率かつ低コストのため，SiCウエハの研磨にとても有望な技術である．ウエハの平坦化においては砥石とウエハの相対運動が大きく関係する．本報では，砥石とウエハの相対運動を改善し，酸化物除去の均一性が最も高くなる研磨パラメータをシミュレーションにより検討し，ECMP装置の改良のための指針を得た．

責任著者(Corresponding author)

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