タイコグラフィによるショットごとのXFEL sub-10nm集光のビーム径計測

塩井 康太; 山田 純平; 伊藤 篤輝; 田中 優人; 大坂 泰斗; 井上 伊知郎; 山口 豪太; 犬伏 雄一; 矢橋 牧名; 山内 和人

doi:10.11522/pscjspe.2023A.0_580

2023年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2023A.0_580

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2023年度精密工学会秋季大会

開催地: 福岡工業大学

開催日: 2023/09/13 - 2023/09/15

タイコグラフィによるショットごとのXFEL sub-10nm集光のビーム径計測

*塩井康太, 山田純平, 伊藤篤輝, 田中優人, 大坂泰斗, 井上伊知郎, 山口豪太, 犬伏雄一, 矢橋牧名, 山内和人

著者情報

*塩井康太
大阪大　工学研究科　物理学系専攻
山田純平
大阪大　工学研究科　物理学系専攻
伊藤篤輝
大阪大　工学研究科　物理学系専攻
田中優人
大阪大　工学研究科　物理学系専攻
大坂泰斗
理化学研
井上伊知郎
理化学研
山口豪太
理化学研
犬伏雄一
理化学研
矢橋牧名
理化学研
山内和人
大阪大　工学研究科　物理学系専攻

キーワード: XFEL, タイコグラフィ

会議録・要旨集フリー

p. 580-581

詳細

抄録

我々はXFELにおいて10²² W/cm² 以上の集光強度を達成可能なsub-10 nm集光光学系の性能評価を行うため，タイコグラフィにおけるプローブ-マルチスライス法を開発した．本手法は複数のデフォーカス位置で計測を行うことで，波面収差と照射位置誤差を分離して高い測定精度を達成できる．さらに，ショットごとの評価を目的に特異値分解に基づく計算手法を導入した．本報では実証実験の結果について報告する．

責任著者(Corresponding author)

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