化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第73年会
セッションID: R305
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

環境
フォトフェントン反応による界面活性剤の分解
*徳村 雅弘, 林 匠, 小野 絵理菜, 川瀬 義矩
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キーワード: surfactant, Photo-Fenton reaction, degradation
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© 2008 社団法人　化学工学会
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