化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第40回秋季大会
セッションID: T217
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

T204-T209, T213-T221, T301-T308, T313-T326
三フッ化塩素ガスによる4H-SiCエッチング速度解析
三浦 豊, 勝見 雄介, 田中 恵子, *羽深 等, 高 原, 深江 功也, 加藤 智久, 奥村 元, 荒井 和雄
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キーワード: SiC, ClF3, Etching
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© 2008 社団法人　化学工学会
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