化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第42回秋季大会
セッションID: N319
会議情報

主催: 化学工学会

Siエピタキシャル高速成長向け反応モデル及び反応メカニズムの解析
*全 基栄, 中嶋 健次, 小澤 隆弘, 杉山 隆英, 石子 雅康, 西田 哲, 栗林 志頭眞, 越 光男
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キーワード: Si epitaxial, Reaction mechanism, Growth rate
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© 2010 社団法人　化学工学会
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