水および二酸化炭素存在下の加熱処理による高分散シリカ担持ニッケル触媒の調製

抄録

シリカ担持ニッケル触媒（Ni/SiO₂）の一般的な調製法は含浸法である。しかし、ニッケル源担持後の焼成時の焼結によりニッケル粒子径が大きくなる問題がある。高分散にニッケル粒子を担持する方法を開発した。含浸法で調製した還元後のNi/SiO₂に水2.5 mL/g_catを加え、CO₂とO₂の混合雰囲気下において80°Cで加熱、撹拌することでニッケル粒子径を20 nmから3 nmまで減少させることができた。また、トルエンの水素化においても触媒活性が約５倍に向上した。