主催: 日本表面科学会
大阪大学大学院理学研究科
兵庫県立大学工学部
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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表面に入射する分子の配向は、反応速度や反応生成物の組成に大きく影響することが期待される。本研究では、配向分子ビーム法とX線光電子分光測定による反応生成物直接観測をもちいてNO/Si(111)7x7表面反応について調べた。室温以上の温度においてNO分子は解離吸着過程であり、今回測定から、解離吸着の反応過程において、N端からの衝突で反応性が優位である結果が得られた。
日本表面真空学会学術講演会要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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