表面科学講演大会講演要旨集
第26回表面科学講演大会
セッションID: P07
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11月6日(月)
超低露点低有機環境のデバイス表面汚染抑制効果
*頭島 康博杉浦 匠
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抄録

水分・有機物など空気中に存在する分子状汚染物質を極限まで低減可能な超低露点低有機空気供給システムを開発し,水分濃度10ppb・有機物濃度1ppb以下の超高清浄環境を実現した。さらに,高清浄環境曝露での各種デバイス用部材表面汚染を検討した結果,一般環境中に曝露した場合に比べ高清浄環境中では表面への分子状汚染物質の吸着量を大幅に低減できることを確認し,高清浄環境が表面汚染抑制に有効な見通しを得た。

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© 2006 社団法人 日本表面科学会
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