表面科学学術講演会要旨集
2018年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 2P70S
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11月20日(火)
W-RHEED法によるマイクロパターンを施したSi表面の構造解析
*中塚 聡平今泉 太志虻川 匡司服部 梓田中 秀和
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抄録

W-RHEED法はナノ領域の表面構造解析を行う上で重要な手法であり、SEMのナノ電子ビームと組み合わせた「ナノビームW-RHEED法」により、試料を方位角に回転させながら数百枚の回折パターンを撮影することでナノ表面の表面観察と表面構造解析が可能となる。
今回はナノビームW-RHEED法を用いて、マイクロパターンを施したシリコンウェハ(110)表面の構造を解析した結果を報告する。

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© 2018 公益社団法人 日本表面科学会
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