光電子制御プラズマCVDによるSiO<sub>2</sub>(350 nm)/Si基板へのナノグラファイト直接成長：膜質の温度依存

表面科学学術講演会要旨集

真空・表面科学合同講演会
（第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会）
日本真空協会・社団法人日本表面科学会

セッションID: 4Ba-08

DOI https://doi.org/10.14886/sssj2008.30.0.27.0

会議情報

主催: 日本真空協会、社団法人日本表面科学会

11月4日（木）

光電子制御プラズマCVDによるSiO₂(350 nm)/Si基板へのナノグラファイト直接成長：膜質の温度依存

*小川修一, 尾白佳大, 佐藤元伸, 二瓶瑞久, 高桑雄二

著者情報

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

キーワード：光電子制御プラズマ、プラズマCVD、ナノグラファイト

著者関連情報

© 2010 社団法人　日本表面科学会/日本真空協会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

前身誌

表面科学講演大会講演要旨集

後続誌

日本表面真空学会学術講演会要旨集

Top