表面科学学術講演会要旨集
真空・表面科学合同講演会
(第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会)
日本真空協会・社団法人日本表面科学会
セッションID: 4Bp-03
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11月4日(木)
H2-O2触媒反応を利用した新規CVD法 1. 高品位酸化亜鉛薄膜の作製
*西山 洋田村 一成三浦 仁嗣井上 泰宣
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抄録

高品質な金属酸化物薄膜の作製が可能なCVD法が強く望まれている。我々は、触媒表面上で進行する水素と酸素の発熱反応により生成させた励起水分子を有機金属気体と反応させる新規なCEW-CVD (Catalytically Excited Water- promoted CVD)法を提案し、本手法を用いてA面サファイア基板上へZnO 薄膜を作製した。膜厚3~4μmのZnO膜のホール効果測定において140~160cm2/Vsの移動度、および 2.2~4.5×1017cm-3のキャリア密度を示す光透過性に優れた透明な高品質ZnO薄膜を得た。

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© 2010 社団法人 日本表面科学会/日本真空協会
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