光電子制御イオンビームと高速中性原子ビームによる基板表面処理の比較

抄録

Si基板にCu及びAuを蒸着した金属薄膜基板に、光電子制御プラズマからのAr⁺イオンビームおよび高速Ar原子ビーム照射による表面処理を行った。光電子制御イオンビーム処理後における蒸着膜表面の粗さは減少した一方、高速原子ビーム照射した基板では表面粗さに変化がなかった。講演では光電子制御イオンビーム照射による金属表面平坦化機構についてイオンエネルギーの観点から考察する。