主催: 公益社団法人日本表面科学会, 一般社団法人日本真空学会
名古屋大学
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SiCパワーデバイスの信頼性や性能の向上において、基板結晶の高品質化が不可欠である。我々はSiC溶液成長過程において、成長方向に平行に延びる貫通転位の多くが、成長方向に垂直な基底面上への転位に変換することを見出した。また、この現象を活用することで、転位欠陥の多くが結晶の外部に排出され、結果として超高品質結晶が実現されることを示した。
表面科学講演大会講演要旨集
日本表面真空学会学術講演会要旨集
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