反応性スパッタリング法によるMgF<sub>2</sub> 薄膜堆積における負イオン入射阻止の堆積速度および光学物性への影響

表面科学学術講演会要旨集

2017年真空・表面科学合同講演会

セッションID: 1Ca09

DOI https://doi.org/10.14886/sssj2008.37.0_33

会議情報

主催: 2017年真空・表面科学合同講演会

8月17日（木）

反応性スパッタリング法によるMgF₂ 薄膜堆積における負イオン入射阻止の堆積速度および光学物性への影響

*草野英二, 松永大輝

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