(株)日立製作所 機械研究所
(株)日立製作所 電子デバイス事業部
1994 年 18 巻 2 号 p. 13-16
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超微粒子を用いた低反射帯電防止膜をディッピング塗布法により形成する技術を新しく開発した。 この膜は,単粒子配列されたSiO_2超微粒子による低反射膜と,導電性を有するSnO_2超微粒子による帯電防止膜の二層膜で構成されている。膜の最外層に形成された超微粒子による微小凹凸によって屈折率が連続的に変化することにより表面の反射を防止することができる。 また形成された膜は,優れた低反射,帯電防止特性を示すと共に高解像度,高コントラスト特性を示す。
映像情報メディア学会技術報告
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