Co-Cr膜の磁気特性と膜構造に及ぼす作製条件の影響 : 画像情報記録

抄録

下地層を導入することにより、Co-Cr膜の磁気特性と膜構造に及ぼす非常に広い範囲でのAr圧力と基板温度の影響を調べた。高Ar圧力作製では(00・1)配向は下地によって200nm厚程まで維持されていることが分かった。一方、低Ar圧力作製では300-600nm厚まで下地の配向の影響を受け、高基板温度は下地の影響を強める。下地膜により高結晶配向性が得られているので、膜の磁気特性は主に膜構造によって影響される。