光交換集積回路のレーザ描画による超微細作成における制御法

抄録

音響光学素子からなるマトリックススイッチ等の光集積回路素子において素子間および波長間のクロストーク低減, 挿入損失低減のためには導波路パターニングの高精度化が不可欠である。本報告では, ステッピングモータ駆動の簡易型レーザ描画装置においてマスクパターン作製精度向上をめざした検討を行う。xyステージのゆらぎ, 振動の計測を行い機械的特性を明らかにする。次に, フィードバック制御の基礎として, PIDフィードバック制御によるステージ駆動を行い, 変位計測の分解能である±40nm以内の精度でパターニングの制御ができることを実験的に示し, さらに, ±5nm程度以下の精度の実現するための検討を行う。