表面と真空
Online ISSN : 2433-5843
Print ISSN : 2433-5835
特集「質量分析計の基礎と応用」
超低ガス放出 質量分析計
岸川 信介 林 雄造
著者情報
キーワード: QMS, low outgas, ion source, BeCu, XHV
ジャーナル 認証あり

2019 年 62 巻 5 号 p. 256-259

詳細
抄録

When residual gas analysis in the UHV and XHV regions are performed with a general quadrupole mass spectrometer (QMS), it is difficult to perform accurate gas analysis due to outgassing from the sensor ion source. We have developed an ultra-low outgassing QMS with an improved ion source to enable highly accurate residual gas analysis.

  Fullsize Image
著者関連情報

この記事はクリエイティブ・コモンズ [表示 - 非営利 4.0 国際]ライセンスの下に提供されています。
https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/deed.ja
前の記事 次の記事
feedback
Top