表面と真空
Online ISSN : 2433-5843
Print ISSN : 2433-5835
特集「実用表面分析の最近の進展」
基礎および産業研究用の実験室系硬X線光電子分光
橋本 嵩広Peter AmannAnna RegoutzNick BarrettLouis F. J. PiperWassim HamoudaOlivier RenaultMarcus Lundwall町田 雅武
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キーワード: HAXPES, laboratory, synchrotron, benchmark
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2021 年 64 巻 11 号 p. 493-498

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抄録

Hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) is a powerful technique to observe chemical and electronic states of atoms buried inside materials. Recently, a laboratory-based HAXPES system with high throughput has been developed, combining a high-flux Ga (Kα=9.25 keV) X-ray source and a high-transmission photoelectron analyser. In this article, research using the HAXPES Lab is reviewed, and the data are compared with those using synchrotron light sources. The HAXPES Lab is an attractive option not only for scientists but also for industrialists needing rapid answers for research and development.

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