2-(p-クロロメチルフェニル)エチルトリメトキシランとフェニルトリメトキシシランとの酸性条件下での共縮合反応により対応するポリシルセスキオキサン(PSQ)誘導体を合成し,これをマクロ開始剤として用い,ATRP法によりブチルアクリレートとメチルメタクリレートのグラフト重合をおこなった。重合条件を検討した結果,配位子として(-)-スパルテインを用いた臭化第一銅触媒存在下,4[M]以上のモノマー濃度で重合を行うことにより,ゲル体の生成を伴うことなく,高収率でブチルアクリレートのグラフト重合が可能であった。さらに,この方法をブチルアクリレートとメチルメタクリレートとのブロック共重合体のグラフト化に適用し,各ポリマーのシークエンスの異なるグラフト鎖を導入したPSQ誘導体を合成した。そして,得られたグラフト化PSQをポリエステルシート上にキャストしてコーティング膜を作製し,その粘着物性を評価した。
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