Zairyo-to-Kankyo

展望

未来へ伝えること

野口学

2015 年 64 巻 9 号 p. 379-380
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.379

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解説特集

電子顕微鏡を用いた鋼板表面解析技術

名越正泰

2015 年 64 巻 9 号 p. 381-387
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.381

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走査電子顕微鏡（SEM），透過電子顕微鏡（TEM），に集束イオンビーム（FIB）を用いた鋼板表面解析技術をレビューする．最近の解析技術の進歩を，防食皮膜や腐食部を含む鋼板の表面，表層断面についての我々の研究結果を示しながら紹介する．

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表面分析法AES，XPS，TOF-SIMSの最近の進歩と腐食分析への応用

眞田則明

2015 年 64 巻 9 号 p. 388-392
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.388

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固体表面の原子・分子レベルの化学情報が得られるオージェ電子分光法（AES），X線光電子分光法（XPS），飛行時間型二次イオン質量分析法（TOF-SIMS）は，固体表面がその特性に深くかかわる材料・デバイスの研究開発および品質保証などの故障解析に欠かせない分析手法として広く利用されている．本稿では，それぞれの手法の最近における分析性能の進歩のなかから，特に高感度化と微小化，イオン源の改善に伴う深さ方向分析の進歩を中心に，最新の分析装置の特徴を紹介するとともに，腐食・防食関連の応用事例を紹介する．

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ノート

塩化物イオンを含むホウ酸塩緩衝溶液中における鉄不動態皮膜破壊に及ぼすヨウ化物イオンの影響

荒牧國次

2015 年 64 巻 9 号 p. 401
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.401

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最近，Fe不動態皮膜の破壊を種々の陰イオン溶液中における破壊までに要する時間t_bdとX線光電子分光法を用いた不動態皮膜中への陰イオンの侵入を測定することで研究した．その結果を硬いおよび軟らかい酸塩基の法則（HSAB則）に基づいて検討した．以前の研究において，Cl^－を含むホウ酸塩緩衝溶液中における不動態化Fe電極の孔食電位と再不動態化電位を測定した．ピット発生とピット成長に及ぼす添加したI^－の影響を電子線プローブ微小分析法を用いHSAB則に基づいて考察した．本報では，以前の研究結果を最近の考察からより詳細に説明する．

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論文

高炉スラグ微粉末混合コンクリートの耐腐食性調査のための曝露試験と腐食電位の遠隔モニタリング

吉村徹, 二井谷教治, 俵道和, 枝木太一郎

2015 年 64 巻 9 号 p. 405-413
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.405

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高炉スラグ微粉末の混合によって，コンクリートの塩化物イオンの浸透抑制は大幅に改善されるものの，内部鋼材が腐食する可能性は残るため，鋼材の腐食環境を監視・予測する技術の確立は重要である．本研究は，①実環境に曝された高炉スラグ微粉末6000を混合したコンクリートの耐久性の検証および②鋼材の腐食環境を監視・予測できるシステムの構築が目的である．①では，3年曝露した試験体から求めた塩化物イオンの見掛けの拡散係数は，コンクリート標準示方書で示される拡散係数の予測式の第3項を－1.0とした曲線に近い結果が得られた．②では，埋設したセンサのデータ収録とデータの遠隔操作を一体化させた新たな計測システムを構築した．構築したシステムを用いれば，腐食センサの自然電位の経時変化データの取得が可能となり，鋼材の腐食環境を常時監視することが可能である．

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二相ステンレス鋼の腐食反応の走査型電気化学顕微鏡観察

青木聡, 谷口友美, 酒井潤一

2015 年 64 巻 9 号 p. 414-420
発行日: 2015/09/15
公開日: 2016/03/03

DOIhttps://doi.org/10.3323/jcorr.64.414

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本研究は，走査型電気化学顕微鏡（SECM）を用いて，二相ステンレス鋼（DSS）を構成するフェライト（α）相およびオーステナイト（γ）相上における腐食反応をそれぞれ個別に観察し，DSSの腐食電位（約－0.15 V vs.SHE）における優先溶解機構を解明することを目的とした．1 mol/l HCl水溶液中の腐食電位においてα相，γ相直上に，プローブ電極を固定し，プローブ電極の電位を－0.10 Vから貴方向へ電位掃引速度20 mV/sで1.4 Vまで掃引し，プローブ電流値を測定した．プローブ電位が0～0.70 Vの領域では，プローブ電極上で水素の酸化反応が起こったことによるアノード電流が検出され，この電流値はα相上に比べγ相上でより大きかった．プローブ電位が0.70～1.2 Vの領域では，二価の鉄イオンが三価の鉄イオンに酸化されたことによるアノード電流が検出され，この電流値はγ相上に比べα相上でより大きかった．DSSの腐食電位において，α相では溶解反応が，γ相では水素イオンの還元反応がそれぞれ主たる反応となると考えられる．

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